فروش نیم دهانه خلا

نیم‌ دهانه خلا : سایزهای (KF16، KF25، KF40، ISO …)


عامل کلیدی در طراحی و بهره‌برداری موفق سیستم‌های خلا، نه تنها انتخاب نوع صحیح نیم‌ دهانه متناسب با سطح خلا و کاربرد، بلکه تضمین “آب‌بندی کامل” و “پایداری مکانیکی” تحت طیف گسترده‌ای از شرایط دمایی و محیطی است. انتخاب صحیح نیم‌ دهانه بر اساس استانداردهای فنی، جنس متریال ساخت، شرایط جوشکاری یا لحیم‌کاری، و نیز روش بازرسی نشتی، کیفیت عملکرد سیستم را تعیین می‌کند. به علت اهمیت فوق‌العاده در کاربردهای حساس مانند تولید نیمه‌هادی‌ها، شتاب‌دهنده‌های ذرات، تجهیزات آزمایشگاهی UHV و ابزار دقیق، مهندسان و طراحان ناگزیر به تبعیت و رعایت ملاحظات سختگیرانه استانداردهای بین‌المللی در انتخاب و مدیریت نیم‌ دهانه‌های خلا هستند.


استانداردهای بین‌المللی نیم‌ دهانه خلا

انواع نیم دهانه خلا

مروری بر استانداردهای غالب: CF، KF، ISO

در صنعت خلا، سه دسته استاندارد نیم‌ دهانه بیشترین کاربری را دارند: CF یا Conflat، KF یا ISO-KF (کمتر اوقات QF یا NW نیز خوانده می‌شود)، و ISO (که خود به ISO-K و ISO-F تقسیم می‌شود). هر یک از این استانداردها متناسب با نیازهای مختلف: فشار نهایی، قابلیت دمونتاژ سریع، اندازه متریال و سطح آب‌بندی، طراحی منحصر به‌فردی دارند.

فلنج CF (Conflat): انتخاب اول برای خلا فوق‌العاده بالا (UHV/ XHV)

  • بازه فشار: ¹۰⁻¹² mbar و حتی پایین‌تر (مناسب UHV و آزمایش‌های حساس)
  • متریال اصلی: استنلس استیل 304 یا 316L (اغلب با آب‌بندی مس OFHC)
  • استانداردهای مرجع: ASTM F73، ISO 3669 (Knife-edge flanges)
  • کاربردها: شتاب‌دهنده‌های ذرات، سیستم‌های اپیتاکسی پرتو مولکولی، لایه‌نشانی‌هایی که سطح تمیزی و کم‌ترین آلودگی را طلب می‌کنند
  • ویژگی آب‌بندی: Knife-edge و گسکت مسی؛ مناسب دماهای bakeout تا ۴۵۰ درجه سلسیوس (مطابق SEMI S2 برای کنترل آلودگی)

نیم دهانه KF (ISO-KF): مناسب کاربردهای عمومی و مونتاژ سریع

  • بازه فشار: معمولا تا ¹۰⁻⁸ mbar (های‌واک)
  • متریال: استنلس استیل 316L، گسکت‌های EPDM یا Viton
  • اندازه: DN10 تا DN50 (مطابق DIN 28403، ISO 2861)
  • کاربردها: آزمایشگاه‌های آنالیتیکال، ورودی پمپ‌های خشک، تولید صنعتی با نیاز به دمونتاژ سریع و تکراری
  • آب‌بندی: O-ring الاستومری با مرکزکننده؛ امکان رسیدن به نرخ نشتی کمتر از ۱e-۹ mbar·L/s
  • مونتاژ: اتصال بدون ابزار (clamp ring)، مناسب مونتاژ‌/دمونتاژ سریع با قابلیت اطمینان بالا

فلنج ISO (ISO-K و ISO-F): برای سیستم‌های بزرگ و محیط‌های صنعتی

  • بازه فشار: اتمسفر تا ¹۰⁻⁸ mbar
  • اندازه: DN63 تا DN630 (ISO-K: استفاده از clamp؛ ISO-F: استفاده از پیچ)، مطابق ISO 1609، DIN 28404
  • ویژگی‌ها: robust و قابل استفاده در محیط‌های ارتعاش، مناسب راکتورهای CVD/PVD و چمبرهای شبیه‌ساز فضا
  • آب‌بندی: O-ring FKM (Viton) برای دما تا ۱۵۰°C یا آب‌بندی فلزی برای bakeout بالاتر

سایر استانداردها: DIN، ASTM و SEMI

  • DIN 28403 (KF) و DIN 28404 (ISO): تعاریف الزامات ابعادی دقیق برای فلنج‌های مختلف و انطباق‌پذیری جهانی
  • ASTM F73: الزامات متریالی، ابعادی و عملکردی برای CF و مشتقات آن
  • ISO 1609: مشخصات فلنج‌های غیر knife-edge؛ مخصوص کاربردهایی با آب‌بندی O-ring فلزی/الاستومری
  • ISO 3669: مرجع ابعادی و متریالی فلنج‌های knife-edge (CF)
  • SEMI S2: رفرنسی کلیدی در صنعت نیمه‌هادی‌ها، به خصوص در کنترل آلودگی و bakeout چمبر (تعیین الزامات مربوط به ایمنی، پایداری و پاکیزگی اجزاء سیستم)

انواع متریال‌ در ساخت نیم‌ دهانه خلا

انتخاب نوع متریال به شدت وابسته به هدف صنعتی، فشار مورد نیاز، سازگاری دمایی، الزامات عدم آلودگی و پایداری است. هر متریال مزایا و معایب خاص خود را دارد و برخی از آن‌ها برای کاربردهای خاص مانند شتاب‌دهنده‌ها، تجهیزات نیمه‌هادی یا آب‌بندی‌های الکتریکی ضروری هستند.

استنلس استیل (304 / 316L): ستون فقرات ساخت نیم‌ دهانه‌ خلا مدرن

ویژگی‌ها:

  • مقاومت عالی در برابر خوردگی، عدم زنگ‌زدگی، قابلیت جوشکاری و ماشین‌کاری عالی، سطح بسیار تمیز با نرخ ماده‌زدایی پایین (low outgassing)
  • کاربرد گسترده در ساخت فلنج‌های CF، KF و ISO
  • 304: رایج، ارزان، مقایسه نسبتا مناسب دما/مقاومت
  • 316L: مولیبدن افزوده شده، مقاومت حرارتی و شیمیایی بالاتر (مناسب محیط‌های کلریدی/شیمیایی و لایه‌نشانی اتمی)

کاربرد تخصصی: ساخت چمبرهای UHV، تجهیزات نیمه‌هادی، شتاب‌دهنده‌ها و هر جایی که کمترین ماده‌زدایی و مقاومت حداکثری لازم باشد.

مس با هدایت بالا (OFHC Copper): ایده‌آل برای آب‌بندی فلزی

ویژگی‌ها:

  • هدایت حرارتی و الکتریکی عالی، نرخ ماده‌زدایی بسیار پایین (outgassing)، قابلیت شکل‌پذیری و نرمی بالا (عدم ایجاد میکرو لیک)
  • کاربرد اصلی به عنوان گسکت در فلنج‌های CF/Conflat، و نیز در اتصالات الکتریکی و سیستم‌های تغذیه برق تحت خلا
  • جنس: C101 یا معادل OFE، خلوص ≥ %99.99
  • قابلیت آب‌بندی تا فشار ×۱۰⁻¹³ torr و دمای ۴۵۰°C در bakeout (در صورت روکش نقره تا بالاتر)

مثال: بیش از ۹۹٪ فلنج‌های CF پیشرفته (اعم از CERN، TSMC و …)، از گسکت OFHC به عنوان تنها گزینه مجاز بهره می‌برند.

آلیاژ کووار (Kovar): راهکار بی‌نظیر اتصال فلز به شیشه/سرامیک

ویژگی‌ها:

  • آلیاژ نیکل–آهن–کبالت با ضریب انبساط حرارتی نزدیک به شیشه و سرامیک (به‌ویژه برای اتصال vacuum feedthroughهای الکتریکی و نوری)
  • استفاده در ساخت فیدترو سرامیکی-فلزی، هدرهای الکترونیکی و hermetic seal ها
  • مطابق با استاندارد ASTM F15، خواص پایدار مکانیکی و حرارتی (مناسب فیدتروهای RF/گاز، مصارف پزشکی و اپتوالکترونیک)
  • مغناطیسی بوده و برای تراشه‌های خاص نیز مناسب است

سرامیک‌ها: عایق بودن و مقاومت دمایی

  • آلومینا سرامیک (Al₂O₃): انتقال سیگنال در فشار پایین (feedthrough)
  • مقاوم دما، عایق الکتریکی و گرمایی، بسیار مقاوم به خوردگی و ماده‌زدایی پایین
  • اتصال با کووار یا استنلس استیل از طریق متالایزینگ یا جوش‌کاری مخصوص
  • پرکاربرد در تجهیزات شتاب‌دهنده، سنسورها، مقره‌ها و خلا شدید

الاستومرها و پلیمرها: ویتون (Viton)، EPDM، Polyimide

جدول زیر خلاصه خواص کلیدی رایج‌ترین الاستومرهای خلا را نشان می‌دهد:

متریالبازه دمایی (°C)بازه کاربردی فشارمزایامعایبتوضیح تکمیلی
Viton-26 تا 210¹۰⁻⁷ تا ¹۰⁻⁹ mbarمقاومت شیمیایی، outgassing بسیار پاییننفوذپذیری هلیوم (نسبتاً)، محدودیت دماییاستاندارد UHV/SEMICON
EPDM-51 تا 150بالا تا متوسطارتجاع عالی، مقاومت Ozon و آبناسازگار با هیدروکربنمناسب سیالات شیمیایی
Polyimideتا 200های‌وک/ UHVمقاومت شیمیایی و دمایی ویژه، ضد تابشجذب آب زیاد، فشار آب‌بندی بالاجانشین Viton در صنایع هسته‌ای و خاص

این مواد مخصوصاً در O-ringها و گسکت‌های KF/ISO برای سیستم‌هایی که نیاز به دمونتاژ و آب‌بندی مجدد دارند، استفاده می‌شوند.


روش‌های اتصال: جوشکاری و لحیم‌کاری در نیم‌ دهانه‌های خلا

جوشکاری (Welding)

در سیستم‌های خلا حرفه‌ای، جوشکاری اصلی‌ترین راه اتصال دائمی است؛ به‌ویژه فلنج، چمبر و اجزای استنلس‌استیل.

  • رایج‌ترین روش‌ها: TIG (Tungsten Inert Gas) و لابراتوری خاص (میکروپلاسمای اتوماتیک، لیزری، الکترون بیم)
  • ملزومات کیفیت بالا: سطوح صاف بدون آلودگی، کنترل گرمایی دقیق، پرهیز از حفره و ترک (مخصوصاً برای UHV)
  • اهمیت کنترل تنش باقی‌مانده: جلوگیری از اعوجاج و نشتی‌های نهفته (virtual/latent leaks)
  • کاربرد: تولید چمبرهای فوق‌العاده حساس، ورودی‌های ابزارهای شتاب‌دهنده، ساخت اتصالات سرامیک-فلز${6†source}

لحیم‌کاری (Brazing) و فیوزینگ (Fusing)

کاربرد:

  • هنگامی که اتصال فلز به سرامیک یا شیشه لازم است (مانند vacuum feedthrough یا viewports)
  • اتصال کووار به شیشه/سرامیک، یا استنلس استیل به مس

لحیم بر پایه فلزات گران بها (نقره، نیکل) یا فعال (AgCuTi):

  • مقاومت بالا، قابلیت سختی مکانیکی و حرارتی، سازگاری UHV
  • تنظیم دقیق شکاف‌ها و یکنواختی آلیاژ: برای جلوگیری از نشتی یا ایجاد فاز شکننده
  • کنترل دما و محیط: مرحله انجام معمولاً در کوره خلا با فشار ¹۰⁻⁶ mbar یا پایین‌تر برای جلوگیری از اکسیداسیون و آلودگی سطح${49†source}

روش‌های آب‌بندی و مونتاژ:

  • CF: پیچ‌کاری قطره‌ای متقاطع برای گسکت مسی (آب‌بندی یک‌بار مصرف)، مونتاژ باید تدریجی و یکنواخت باشد
  • KF/ISO: استفاده از رینگ و O-ring الاستومری، قابلیت مونتاژ دستی، سرعت بالا

شیوه‌های تست نشتی و بازرسی: ابزارهای ارزیابی کیفیت آب‌بندی

انجام تست نشتی دقیق برای اطمینان از آب‌بندی کامل سیستم‌های خلا، ضرورت غیرقابل اغماضی دارد. آزمون‌های استاندارد بین‌المللی به شرح زیر است:

آزمون هلیوم (Helium Leak Detection)

  • استاندارد عمل: تنها روش قابل اعتماد برای دستیابی به حساسیت‌های بالای ¹۰⁻⁹ تا ¹۰⁻¹² mbar.l/s
  • نحوه اجرا: سیستم را خلا کرده، هلیوم را از بیرون به نقاط حساس (فلنج‌ها، جوش‌ها، اتصالات) می‌پاشند؛ هر گونه عبور هلیوم از نشتی با دتکتور ماس‌اسپکترو متر شناسایی می‌شود
  • مزیت: قابلیت شناسایی میکرونشتی‌ها و ارزیابی کیفیت نهایی اتصال فلنج و چمبر
  • کاربرد: اجباری در صنایع SEMICON و شتاب‌دهنده‌ها؛ الزامی طبق SEMI S2، DIN، ISO

Pressure Rise Test

  • روش: سیستم را تا فشار بسیار پایین پمپ کرده، پس از جداسازی پمپ، سرعت افزایش فشار داخل چمبر اندازه‌گیری می‌شود
  • کاربرد: عیب‌یابی اولیه، کنترل کلی تجهیزات آزمایشگاهی

آزمون‌های تکمیلی و غیرمخرب

  • آزمون فوم یا bubble (برای نشتی‌های درشت‌تر یا فشار پایین)
  • آزمون فشار منفی/مثبت برای نشتی‌های عمده (در خطوط تولید)
  • آنالیز طیفی و تست‌های تخریبی متناسب با نیاز

کاربردهای صنعتی و پیشرفته نیم‌ دهانه خلا

صنعت نیمه‌هادی (Semiconductor): خطوط تولید پیشرفته، EUV و چمبرهای Cleanroom

  • فلنج‌های CF UHV (مثلاً DN200) در ابزار لیتوگرافی EUV: برای نگهداری فشار تا ¹۰⁻¹⁰ mbar، کاهش آلودگی ذرات و ملکول‌های مزاحم، کاهش نرخ Defect تا بیش از ۳۰٪ (موارد عملی در TSMC و SMIC)
  • قطعات KF/ISO-KF کوچک: در ابزارهای متالوژی، پمپ‌های واکیوم Dry و چمبرهای test cycle با نیاز به مونتاژ/دمونتاژ سریع
  • اقدامات کنترلی: الزام تجهیزات مطابق SEMI S2 برای کنترل آلودگی و Bakeout، الزامات ویژه در انتخاب الاستومر (Viton/EPDM grade SEMICON) و تشخیص میکرو نشتی با هلیوم

شتاب‌دهنده‌های ذرات (Particle Accelerator)

  • اهمیت خلا شدید UHV/XHV: کاهش پراکندگی و برخورد ذرات با مولکول‌های هوا، اطمینان از عمر و عملکرد پایدار Beamline
  • نمونه تجهیزات: سیستم‌های اتصال CF با گسکت OFHC مس تا ¹۰⁻¹² mbar، فیدتروهای سرامیکی-فلزی برای عبور جریان و سیگنال با حفظ کامل آب‌بندی
  • آزمون‌های هلیوم و Pressure Rise: الزامی برای تضمین عدم نشت اجزای جوشکاری و فلنج‌ها؛ مهم‌ترین نگرانی، نشتی نهان ناشی از جوش‌های معیوب یا چمبرهای بسیار بزرگ${57†source}

سایر کاربردها

  • ابزارآلات اندازه‌گیری تحلیلی: مانند Mass Spectrometer و SEM، که استاندارد خلای UHV ضروری است
  • سیستم‌های تحقیقاتی مواد، انرژی و فیزیک پلاسما: به‌خصوص سیستم‌های deposition، beamline syncrotron، و چمبر شبیه‌ساز فضا
  • پزشکی و فناوری‌های زیستی: آزمایشگاه‌های خلای بالا و تجهیزات تصویربرداری تخصصی

نوآوری‌ها و ترندهای ساخت نیم‌ دهانه خلا در سال‌های اخیر

در سال‌های اخیر، پیشرفت‌های چشمگیری در عرصه طراحی، توسعه متریال و سامانه‌های هوشمند نظارت بر عملکرد نیم‌ دهانه‌های خلا رخ داده است. برخی از شاخص‌ترین روندها عبارتند از:

  • ورود آلیاژهای با مقاومت ویژه در برابر شرایط خورنده و دمای بالا (مانند اینکونل و DUVALLOY؛ جهت صنایع داروسازی، انرژی و طیف خاص)؛
  • یکپارچه‌سازی سنسورهای دیجیتال و IoT با نیم‌ دهانه‌ها برای پایش وضعیت فشار، دما و نواقص مکانیکی به‌صورت real-time؛
  • افزایش قابلیت سفارشی‌سازی متریال و اندازه متناسب با نیازهای ویژه هر پروژه علمی یا صنعتی، مخصوصاً در زمینه تولید نیمه‌هادی‌های نسل نو (EUV/QUANTUM DEVICES).

جمع‌بندی و نکات کلیدی

نیم‌ دهانه‌های خلا، به‌عنوان اجزای کلیدی در طراحی سیستم‌های خلای صنعتی و پژوهشی، نقشی حیاتی در تضمین عملکرد، پایداری و کیفیت نهایی فرآیندها دارند. رعایت دقیق استانداردهای جهانی، دانش صحیح در انتخاب متریال و روش‌های اتصال، اجرای دقیق تست نشتی و درک عمیق از فضای کاربردی، تضمین‌کننده دستیابی به بهترین عملکرد در فناوری‌های مدرن می‌باشد.

دیدگاه‌ خود را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *